Nuovo approccio per misurare i livelli di carbonio interstiziale nei wafer di silicio utilizzando la spettroscopia infrarossa
LOCARNO, MATTEO
2024/2025
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A NOVEL APPROACH TO MEASURING INTERSTITIAL CARBON LEVELS IN SILICON WAFERS UTILISING INFRARED SPECTROSCOPY.pdf
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https://hdl.handle.net/20.500.14238/4002